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专利
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  • 发明

    发明专利是专利法保护的专利的三种类型之一,它是指对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案
  • 实用新型

    是指对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案
  • 外观设计

    外观设计是受专利法保护的三种专利类型之一,是就产品的外表所做出的设计,也即产品的式样
  • 专利许可备案/专利著录变更

    指国务院专利行政部门对当事人已经缔结并生效的专利实施许可合同加以留存,并对外公开的行为
  • 专利登记簿副本

    授予专利权时,专利登记簿与专利证书上记载的内容一致,在法律上具有同等效力

  • 专利评价报告

    专利权评价报告是针对实用新型和外观设计的,就该专利是否符合专利法及其实施细则规定的授权条件进行分析和评价

  • 集成电路布图

    集成电路布图设计实质上是一种图形设计,但它并非是工业品外观设计,不能适用专利法保护

  • 植物新品种

    植物新品种权,是工业产权的一种类型,是指完成育种的单位或个人对其授权的品种依法享有的排他使用权

集成电路布图设计权是一项独立的知识产权,是权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。布图设计权的主体是指依法能够取得布图设计专有权的人,通常称为专有权人或权利持有人。

布图设计专有权的取得方式通常有以下三种:

登记制;有限的使用取得与登记制相结合的方式;自然取得制。关于布图设计权的保护期,各国法律一般都规定为10年。根据《关于集成电路的知识产权条约》的要求,布图设计权的保护期至少为8年。《知识产权协议》所规定的保护期则为10年。我国《集成电路布图设计保护条例》第十二条[1] 规定,布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受该条例保护。



目前,世界各国主要采取三种取得方式:自然取得,登记取得,使用与登记取得,大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。

取得的程序:

(1)申请:向国家知识产权行政部门提交申请文件;

(2)初审;

(3)登记并公告;

(4)对驳回申请的复审;

(5)登记的撤销。

(四)集成电路布图设计申请阶段需提交的材料:

(1)集成电路布图设计登记申请表。

(2)集成电路布图设计的复制件或者图样。

(3)集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。

(4)国家知识产权局规定的其他材料。

一、申请布图设计登记需提供资料:

(一)布图设计登记基本情况:1、申请人营业执照复印件;2、布图设计创作者的姓名;3、布图设计的名称、完成日期及其所用于的集成电路的分类;4、布图设计有商业利用行为的,该行为的发生日。

(二)布图设计的复制件或者图样;1、复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上;2、复制件或者图样有多张纸件的,应当顺序编号并附具目录;3、复制件或者图样的纸件应当使用A4纸格式;如果大于A4纸的,应当折叠成A4纸格式;4、复制件或者图样可以附具简单的文字说明,说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。

(三)注意:布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该布图设计的集成电路样品。应当符合下列要求:1、所提交的4件集成电路样品应当置于能保证其不受损坏的专用器具中;2、器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定,不得有损坏,并能够在干燥器中至少存放十年。二、保护期限:布图设计专有权的保护期限为10年;自登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。三、申请时间:布图设计申请的时间:通常在3-6个月之内,视专利局处理速度而定。

一.人民法院或者管理专利工作的部门审理、处理专利侵权纠纷案件的依据。

1.人民法院或者管理专利工作的部门判断是否中止审理、处理程序依据。

2.人民法院或者管理专利工作的部门审理、处理专利侵权纠纷中判断是否侵权依据。

二.专利权人专利推广中证明专利“含金量”的依据。

三.应对专利侵权的资料储备。

常见问题
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